【答案】三氟化氮是微电子工业中一种优良的

返回首页问题时间:2024-02-14 23:18
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三氟化氮NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它无色、无臭,在潮湿的空气中能发生下列反应:3NF3+5H2O2NO+HNO3+9HF,下列有关说法正确的是(   )

A. 反应中NF3是氧化剂,H2O是还原剂

B. 反应中被氧化与被还原的原子物质的量之比为21

C. NF3在潮湿的空气中泄漏会产生白雾、红棕色气体等现象

D. 若反应中生成0.2 mol HNO3,则反应共转移0.2 mol e-

 

答案

C

解析

A氮元素化合价从+3价部分升高到+5价,部分降低到+2价,只有N元素的化合价发生变化,自身发生氧化还原反应,A错误;

B.当有3molNF3参加反应,生成2molNO1molHNO3反应中被氧化与被还原的原子物质的量之比为12B错误;

C.反应中生成NO,与氧气反应生成红棕色的NO2,同时生成硝酸,易与空气中的水蒸气结合形成白雾,C正确

D.若反应中生成0.2molHNO3N元素化合价由+3价升高到+5价,则反应共转移0.4mol电子D错误;

答案选C

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